Industrieel-vacuümcoatingsysteem dat magnetronsputteren (RF/DC/HiPIMS) en kathodische boogverdamping integreert. Ontworpen voor continue, meer-laagse, gelegeerde en nano-composiet dunne-filmafzetting op productieschaal.
Technische specificaties
|
Parameter |
Specificatie Waarde |
|
Ultieme vacuümdruk |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Kamerafmetingen |
Aangepaste afmetingen van D 600 mm x 600 mm tot D 1500 mm x 1500 mm (304/316L elektro-gepolijst roestvrij staal) |
|
Afzettingsbronnen |
Configureerbaar: 2-6 magnetronsputterkathodes / 2-4 boogbronnen |
|
Substraatvoorspanningskracht |
0 tot -1000 VDC instelbaar (gepulseerde DC voor diëlektrische substraten) |
|
Uniformiteit van de filmdikte |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Substraattemperatuur |
Omgevingstemperatuur tot 650 graden (+/- 2 graden PID gesloten-lusregeling) |
|
Stroomdistributie |
RF (13,56 MHz), DC, gepulseerde DC en midden-frequentie (MF) met boogonderdrukking |
Belangrijkste kenmerken
Dubbele-technologie-integratie:Combineert sputteren (gladde, amorfe samengestelde films) en kathodische boog (hoge- ionisatiemetaal-/legeringsafzetting) in één pomp- down-cyclus.
Gesloten-gasbeheer met lus:Massastroomregelaars (MFC's) in combinatie met optische emissiemonitoring (OEM) stabiliseren de partiële reactieve gasdrukken.
Mechanische isolatie:Planetaire aandrijvingen met meerdere- assen isoleren mechanische lagers van de proceszone, waardoor verontreiniging door deeltjes wordt voorkomen.
Thermische architectuur:Dubbel-water-gekoelde kamerwanden en stralingsafscherming voorkomen thermische vervorming tijdens werking-met hoog vermogen.
Automatiseringskern:Siemens S7-1500 PLC en WinCC SCADA-architectuur voor realtime bewaking van vergrendeling, gas en stroom.
Configuratie van het vacuümsysteem
Voorbewerken trein:Schottenpompen met directe-aandrijving, ondersteund door Roots-blowers met magnetische vloeistofafdichtingen.
Hoog vacuüm:Magnetisch zwevende turbo-moleculaire pompen (1200 - 3200 L/s) of cryogene pompen.
Diagnostiek:Geïntegreerde testpoorten voor heliummassaspectrometers en geautomatiseerde sequencing-vergrendelingen.
Compatibiliteit van materialen en substraten
Doelmaterialen:
Metalen:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Keramiek/verbindingen:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Substraten:Gereedschapsstaal (H13, M2, hardmetalen inzetstukken), titanium/aluminium structurele legeringen, technisch keramiek en siliciumwafels.
Toepassingen en bewezen prestaties
Snijgereedschappen:Meerlaagse coatings met lage-wrijving en hoge-hardheid- (TiAlN/TiN) voor een langere standtijd bij droog bewerken met hoge- snelheid.
Automobiel:Slijt- en anti-schuurcoatings voor zuigerveren en brandstofinjectiepennen.
Lucht- en ruimtevaart:Oxidatie-bestendige thermische barrière en beschermende films op compressorbladen en bevestigingsmiddelen.
Optica en elektronica:Geleidende transparante oxiden (ITO) en optische interferentiefilters.
Aanpassingsopties
Kamergeometrie:Rechthoekige doosconfiguraties voor het laden van batchrekken of cilindrische inline-geometrieën.
Bron Achteraf inbouwen:Verwisselbare kathodemontageflenzen voor veldconversie naar CFUBMS.
Plasma-etsen:Kaufmann-type ionenpistolen of holle-kathodebronnen voor in-substraatreiniging.
Kwaliteitscontrole en fabriekstesten
Vacuümintegriteit:Drempelwaarde voor heliumlektest<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Oppervlakteafwerking:Interne lasnaden van de kamer elektrisch-gepolijst tot Ra<= 0.4 um.
VET:72-uur continue drooglooptest van vacuüm-, bewegings- en veiligheidsvergrendelingslussen voorafgaand aan het inpakken in kratten.
Nalevingsnormen:Gebouwd volgens CE-machinerichtlijnen en ISO 9001-normen. (Vertrouwensbadgepictogrammen: ISO 9001, CE, UL)
Installatie en technische ondersteuning
Documentatiebundel:P&ID-schema's, elektrische bedradingsschema's, PLC-bronlogica en CE/UL-conformiteitsdossiers.
Inbedrijfstelling:Veldingenieurs houden toezicht op de mechanische positionering, aansluitingen op nutsvoorzieningen en verificatie van lekcontroles.
SAT & Receptoverdracht:Basistests op locatie- en receptoptimalisatie.
Veelgestelde vragen
Vraag: Wat is de uitvaltijd van de pomp- tot de basisdruk?
A: Bereikt < 5,0 x 10^-4 Pa binnen 45 minuten onder schone, droge en thermische omgevingsomstandigheden.
Vraag: Kan het systeem halverwege het proces schakelen tussen DC- en RF-sputteren?
EEN: Ja. De vermogensmatrix maakt software-gecontroleerde sequencing tussen DC, gepulseerde DC en RF mogelijk zonder het vacuüm te onderbreken.
Vraag: Welke hulpprogramma's zijn vereist op-de locatie?
A: Gekoeld water (15 tot 20 graden bij 0,3 tot 0,4 MPa), perslucht (0,6 MPa), hoog-zuivere procesgassen (Ar, N2, O2 bij 99,999%) en speciale driefasige industriële stroom.
Vraag: Hoe wordt de substraattemperatuur geregeld tijdens depositie?
A: Geïntegreerde infraroodpyrometers gekoppeld aan stralingsverwarmingsbanken en PID-gesloten-lusregeling.
Populaire tags: pvd composiet dunne filmsysteem, China pvd composiet dunne filmsysteem fabrikanten, leveranciers, fabriek
