Productoverzicht
De IAE-Serie Ion-Assisted Evaporation Thin Film Equipment integreert fysische dampdepositie (PVD) met real-time ionenbundelbombardementen. Door energetische ionen op het substraat te richten tijdens thermische verdamping of elektronenbundelverdamping, draagt het systeem momentum over op de condenserende adatomen, waardoor de microstructuur van de groeiende film wordt geherstructureerd.
Deze kinetische energieoverdracht elimineert kolomvormige holtes, onderdrukt de vochtopname en vergrendelt de brekingsindex tegen verschuivingen in de omgevingsvochtigheid. Het platform is gebouwd voor continu multi-ploegendiensten in optische en halfgeleiderproductielijnen en verwerkt substraten variërend van hoog-precieze laseroptiek tot siliciumwafels.
-
![Ion-Ondersteunde vacuümverdampingsapparatuur]()
Ion-Ondersteunde vacuümverdampingsapparatuurHet Ion-ondersteunde vacuümverdampingssysteem integreert hoog-vacuüm thermische of elektronen-verdampingsbronnen met een Kaufman-type of End-Hall-ionenbron. Door de groeiende film te bombarderen...Bekijk meer -
![Ion-ondersteund systeem voor het afzetten van dunne films]()
Ion-ondersteund systeem voor het afzetten van dunne filmsHet Ion-Assisted Thin Film Deposition System integreert multi-pocket-elektronen-bundel/thermische verdamping met een hoogwaardige-End-Hall- of Kaufman--ionenbron. Tijdens fysische dampafzetting...Bekijk meer -
![Apparatuur voor verdamping met ionenbundel]()
Apparatuur voor verdamping met ionenbundelHet IBAE-systeem combineert elektronen-bundel of thermische verdamping met een geïntegreerde brede- ionenbron. Gelijktijdig ionenbombardement tijdens filmgroei draagt kinetische energie over aan...Bekijk meer -
![Ion-ondersteunde apparatuur voor depositie van dunne films]()
Ion-ondersteunde apparatuur voor depositie van dunne filmsDe IA-Series Ion-Assisted Thin Film Deposition Equipment integreert thermische verdamping met elektronen-bundels met een Kaufman- of End-Hall-ionenbron. Energetisch ionenbombardement...Bekijk meer -
![Ion-ondersteund verdampingssysteem voor dunne films]()
Ion-ondersteund verdampingssysteem voor dunne filmsHet Ion-Assisted Evaporation (IAE) dunnefilmsysteem integreert fysische dampafzetting (PVD) met bombardementen met energetische ionenbundels. Tijdens thermische verdamping of verdamping met een...Bekijk meer -
![Ion-apparatuur voor geassisteerde verdamping van dunne films]()
Ion-apparatuur voor geassisteerde verdamping van dunne filmsIndustrieel-ionen-ondersteund verdampingssysteem (IAE) dat de verdamping van multi-pocket-elektronen-bundels integreert met een energetische ionenbundelbron (End-Hall- of Kaufman-configuratie)....Bekijk meer
Technische specificaties
|
Parameter |
Specificatie |
|
Ultieme basisdruk |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
|
Verdampingsbronnen |
Multi-E--zakkanon (4 × 15 cc tot 40 cc) en resistieve thermische bronnen |
|
Type ionenbron |
Gridless End-Hall / Kaufman-type ionenbron (bundelspanning: 50 – 1500 V, ionenstroom: 0,1 – 3 A) |
|
Filmdiktecontrole |
Kwartskristalmicrobalans (QCM) + Optisch monitoringsysteem (OMS), precisie ± 0,1 nm |
|
Substraatbevestiging |
Planetaire rotatiebevestiging, koepelradius aangepast aan de substraatgeometrie |
|
Substraatverwarming |
Stralingsverwarmerarray, tot 350 graden met ± 2 graden PID-uniformiteit |
|
Controlearchitectuur |
PLC + industriële pc, geautomatiseerde receptuitvoering, datalogging conform SECS/GEM |
Ion-Ondersteund afzettingsproces
Dampgeneratie:
Materiaal wordt verdampt uit de e-straalkroes of thermische boot met gecontroleerde depositiesnelheden (0,1 – 2,0 nm/s).
01
Momentumoverdracht:
Energetische ionen (Ar⁺, O⁺) bombarderen het substraatoppervlak gelijktijdig met de binnenkomende dampflux van de E--straal of thermische bron.
02
Microstructuurmodificatie:
Ionenimpact verbetert de mobiliteit van het adatomoppervlak, voorkomt kolomvormige korrelgroei en bereikt een bijna-bulkdichtheid (pakdichtheid > 99%).
03
Stoichiometriecorrectie:
Reactieve ionenondersteuning (O₂) zorgt voor volledige oxidatie van sub{0}}oxiden in metaaloxidefilms (bijv. Ta₂O₅, Nb₂O₅, SiO₂), waardoor absorptiebanden in het UV-NIR-spectrum worden geëlimineerd.
04
Filmmaterialen
Oxiden:
SiO₂, Ta₂O₅, TiO₂, Nb₂O₅, HfO₂ (hoge brekingsindexstabiliteit voor optische filters).
Fluoriden:
MgF₂, LaF₃ (lagen met lage brekingsindex voor breedband AR-coatings).
Metalen:
Al, Ag, Au, Ti (hechtlagen en metalen reflectoren).
Toepassingen
Laser- en precisie-optiek:
Banddoorlaatfilters, dichroïsche spiegels en laserbeschermende coatings die een hoge laser{0}}geïnduceerde schadedrempel (LIDT) en nul spectrale verschuiving onder thermische belasting vereisen.
LiDAR-afdekglas:
Duurzame anti{0}}reflecterende (AR) en- vuilwerende dunne films die bestand zijn tegen extreme weersomstandigheden buitenshuis.
Halfgeleiderverpakking:
Vochtbarrière-inkapselingslagen en metalen contactvlakken die worden afgezet bij lage substraattemperaturen.
Biomedische sensoren:
Biocompatibele optische interferentiecoatings voor diagnostische microfluïdische chips.
Maatwerk
Kamers en interne lay-outs zijn ontworpen volgens specifieke productie-footprints en procesvereisten:
Kamerafmetingen:
Schaalbaar van R=600 mm R&D-eenheden tot R=1200 mm hoge- productiesystemen.
Pomppakketten:
Configureerbaar met Maglev-turbomoleculaire pompen, cryopompen en Roots-blower-ondersteuningslijnen op basis van de gasbelastingsvereisten.
Bronintegratie:
Configuraties met dubbele-ionenbronnen of co-depositieopstellingen voor complexe legerings- en meer- laaggradiëntfilms.
Automatiseringsniveau:
Integratie met geautomatiseerde cleanroom-substraatoverdrachtsystemen (EFEM / Vacuum cluster tools).
Kwaliteitscontrole
Lekdetectie:
Elke vacuümkamer wordt getest op heliumlekken- met behulp van een massaspectrometer (leksnelheid < 1,0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s).
Traceerbaarheid van componenten:
Vacuümkleppen, massflowregelaars (MFC's) en voedingen afkomstig van gekwalificeerde Tier-1 industriële merken (MKS, Inficon, VAT).
Fabrieksacceptatietesten (FAT):
Voer-tests uit om de basisdruk, pompcurve, bronstabiliteit en 24-uur ononderbroken lege kameruithoudingsvermogen vóór verzending te verifiëren.
Metrologievalidatie:
Monsterruns geverifieerd via spectrofotometer (transmissie/reflectie) en atoomkrachtmicroscopie (oppervlakteruwheid Ra <0,5 nm).
Installatie en technische ondersteuning
Handleiding voor locatievoorbereiding:
Uitgebreide nutsvoorzieningen die voorafgaand aan de levering zijn verstrekt (koelwaterstroom/-druk, perslucht in de cleanroom, stroomverdeling, uitlaatventilatie).
Turn-key inbedrijfstelling:
Buitendienstmonteurs zorgen voor de mechanische montage, het -vacuüm bakken, de kalibratie van de ionenbundel en het aftekenen van het initiële procesrecept-op-site.
Operatortraining:
Gestructureerde praktische-training over routineonderhoud, vacuümveiligheid, bediening van de software en probleemoplossing.
Levenscyclusondersteuning:
Diagnose-interface op afstand voor snelle probleemoplossing van software; regionale voorraad van kritische slijtageartikelen (filamenten, smeltkroezen, schilden) verzonden binnen 48 uur.
Veelgestelde vragen
We staan bekend als een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van dunne-filmapparatuur met ion-ondersteunde verdamping in China. Als u op maat gemaakte dunne-filmapparatuur voor ion-ondersteunde verdamping gaat kopen, gemaakt in China, ontvangt u graag een prijslijst van onze fabriek. Voor prijsadvies kunt u contact met ons opnemen.
