Het IBAE-systeem combineert elektronen-bundel of thermische verdamping met een geïntegreerde brede- ionenbron. Gelijktijdig ionenbombardement tijdens filmgroei draagt kinetische energie over aan condenserende adatomen, waardoor kolomvormige microstructuren worden geëlimineerd en dunne films met een bijna-bulk-dichtheidsdichtheid worden geproduceerd met minimale vocht-geïnduceerde spectrale verschuiving.
Technische specificaties
|
Parameter |
Specificatie |
|
Basisdruk |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Werkdruk |
1,0 x 10^(-1) tot 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
Type ionenbron |
Gridless End-Hall / Kaufmann-ionenbron |
|
Ionenstraal-energie |
50 eV tot 1500 eV (gesloten-lus gestabiliseerd) |
|
Ionenbundel huidige dichtheid |
0 tot 2,5 mA/cm^2 |
|
Verdampingsbronnen |
Multi-E-zakkanon (4 x 15 cc tot 6 x 40 cc) / weerstandsboten |
|
Substraathouder |
Planetair rotatiearmatuur met verwarming tot 300 graden C |
|
Dikte-uniformiteit |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Controlesysteem |
Siemens S7-1500 PLC + Industriële PC (Inficon depositiecontroller) |
Belangrijkste kenmerken
Dubbel-bombardement:Kinetische energieoverdracht verdicht films bij lage substraattemperaturen en beschermt kwetsbare optica en polymeersubstraten.
Gesloten-lusionenstabilisatie:Geïntegreerde massastroomregelaars zorgen voor een constante ionenstroom tijdens lange productieruns, waardoor batchconsistentie wordt gegarandeerd.
Modulaire vacuümkamer:304L roestvrijstalen structuur met elektrisch-gepolijste binnenkant (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Geautomatiseerde volgordebepaling:PLC-beheerde pomp-down-, afzettings- en ontluchtingscycli minimaliseren de operationele variantie.
Configuratie van het vacuümsysteem
Voorbewerkingspompen:Olie-vrije droge wortels en schottenpompen.
Hoge vacuümpomp:Magnetisch zwevende turbomoleculaire pomp (1600 L/s).
Meters:Combinatie Pirani, koude kathode en Baratron capaciteitsmanometers.
Kleppen:Pneumatische schuif- en hoekkleppen met hardwarematige veiligheidsvergrendelingen.
Verdampingsmaterialen en substraatcompatibiliteit
Oxiden:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Fluoriden:MgF2, LaF3
Metalen:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Substraten:Gesmolten silica, BK7, siliciumwafels, germanium, zinkselenide (ZnSe) en hitte-bestendig polyimide.
Toepassingen
Precisie-optiek:Smalbanddoorlaatfilters en DWDM-coatings die stabiele middengolflengten vereisen.
Laseroptiek:Reflectoren met hoge-schade-drempel en anti-reflectiecoatings.
Halfgeleider en fotonica:Diëlektrische beschermlagen, passivatie en optische golfgeleiders.
Zonne-energie:Modificatie van de interface van transparant geleidend oxide (TCO).
Maatwerk
Kamergrootte:Schaalbare diameters van 600 mm tot 1200 mm.
Bronindeling:Maximaal drie e-elektronische kanonnen en meerdere thermische bronnen per platform.
In-In{0}}Insitu-metrologie:Integratie van breedband optische monitoring (BOM) of kwartskristalmicrobalans (QCM).
Automatisering:Robotachtige interfaces voor het laden van substraten die voldoen aan de SEMI-normen.
Kwaliteitscontrole
Lekdetectie:Heliummassaspectrometer testen per kamer (gevoeligheid<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Componenteninkoop:Tier-1 industriële merken (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Fabrieksacceptatie (FAT):72 uur continu droogdraaien en verificatiecoating die de brekingsindex en uniformiteit meet vóór verzending.
Installatie en technische ondersteuning
Documentatie:Compleet Engelstalig pakket inclusief elektrische schema's, P&ID-diagrammen en PLC-broncodes.
Velddiensten:Kant-en-klare installatie, vacuümkalibratie en receptafstemming door toepassingsingenieurs.
Diagnose op afstand:Veilige VPN-module voor het oplossen van software- en procesproblemen.
Veelgestelde vragen
Vraag: Hoe verandert ionenhulp de oxidebrekingsindex?
A: Energetisch ionenbombardement verdrijft opgesloten restgassen en verdicht de microstructuur, waardoor de brekingsindex van films zoals Ta2O5 en TiO2 dichter bij de bulkwaarden komt te liggen.
Vraag: Wat is het typische onderhoudsinterval voor de ionenbron?
A: Onderhoudsintervallen variëren van 150 tot 300 verwerkingsuren, afhankelijk van de procesgassen en de bedrijfsvermogensdichtheid.
Vraag: Kan dit systeem reactieve gasprocessen beheren?
EEN: Ja. Onafhankelijke massastroomregelaars injecteren reactieve gassen (O2, N2) rechtstreeks in de ionenbron en kamerzones, onderling verbonden met veiligheidsdrukschakelaars.
Populaire tags: ionenbundel-ondersteunde verdampingsapparatuur, China ionenbundel-ondersteunde verdampingsapparatuur fabrikanten, leveranciers, fabriek
