Productoverzicht
Deze dunne-filmapparatuur voor verdamping met elektronenbundels is ontworpen voor zeer nauwkeurige fysische dampafzetting (PVD). Door gebruik te maken van een gerichte elektronenbundel met hoge{2}}energie om bronmaterialen te bombarderen, bereikt het systeem hoge verdampingssnelheden voor metalen, oxiden en diëlektrische materialen met een hoog-smeltpunt-.
Het systeem is gebouwd op een modulaire vacuümarchitectuur en biedt ruimte aan elektronenkanonnen met meerdere -pockets, aanpasbare substraatbevestigingen en geavanceerde in- monitoring ter plaatse. Het bedient R&D-laboratoria en productielijnen met hoge productie- die strikte controle vereisen over filmstoichiometrie, hechting en optische prestaties.
-
![Apparatuur voor hoogvacuüm-elektronenbundelverdamping]()
Apparatuur voor hoogvacuüm-elektronenbundelverdampingHet EBE-serie hoogvacuüm-elektronenbundelverdampingssysteem zet dunne films met een hoge-zuiverheid af voor optische, halfgeleider- en metallurgische toepassingen. Door een magnetisch...Bekijk meer -
![Elektronenbundelsysteem voor dunne filmafzetting]()
Elektronenbundelsysteem voor dunne filmafzettingHet Electron Beam Thin Film Deposition System levert directionele, hoog{0}}zuivere PVD-verwerking voor geavanceerd onderzoek en industriële productie. Door gebruik te maken van een gefocusseerde,...Bekijk meer -
![Apparatuur voor vacuümverdamping met elektronenbundels]()
Apparatuur voor vacuümverdamping met elektronenbundelsDit elektronenstraal-vacuümverdampingssysteem voert fysische dampafzetting (PVD) uit van metalen, oxiden en diëlektrica met een hoog-smeltpunt-. Door een gefocusseerde elektronenbundel in een...Bekijk meer -
![Apparatuur voor het afzetten van dunne films met elektronenbundels]()
Apparatuur voor het afzetten van dunne films met elektron...Dit industriële systeem voor het neerslaan van elektronenbundels maakt gebruik van magnetisch gefocusseerde elektronenkanonnen (3 kW tot 15 kW) om energiestromen met hoge-dichtheid naar...Bekijk meer -
![Elektronenbundelverdamping Dunnefilmsysteem]()
Elektronenbundelverdamping DunnefilmsysteemHet EBE-Elektronenbundelverdampingssysteem uit de EBE-serie is ontworpen voor fysieke dampafzetting (PVD) van metalen met een hoog-smeltpunt-, diëlektrica en optische materialen. Door gebruik te...Bekijk meer -
![Elektronenbundelverdamping Dunnefilmapparatuur]()
Elektronenbundelverdamping DunnefilmapparatuurDe EBE-V600-serie is een platform voor fysieke dampdepositie (PVD) op industriële-schaal, ontworpen voor nauwkeurige dunne-filmcoating van optische componenten, halfgeleiderapparaten en...Bekijk meer
Technische specificaties
|
Parameter |
Specificatiebereik |
Opmerkingen / Standaardconfiguratie |
|
Ultieme basisdruk |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Bereikt via cryogene of turbo-moleculaire pompgroepen |
|
Kamerafmetingen |
Op maat gemaakt (binnendiameter 500 mm tot 1200 mm) |
304L / 316L roestvrij staal, elektrisch-gepolijst |
|
E-Nominaal pistoolvermogen |
6 kW tot 15 kW (multi-pocket sweep-generatoren) |
Programmeerbare straalafbuiging en indexering van meerdere-kroezen |
|
Afzettingspercentage |
0,1 nm/s tot 10 nm/s |
Real-gesloten-lusregeling via kwartskristalmonitor |
|
Uniformiteit van de filmdikte |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Planetaire of koepelvormige substraatarmatuur met variabele rotatiesnelheid |
|
Substraattemperatuur |
Omgevingstemperatuur tot 800 graden |
Geïntegreerde stralingsverwarming met PID thermische feedback |
Belangrijkste uitrustingskenmerken
Elektronenkanon met hoge-stabiliteit:
Beschikt over magnetische afbuiging en focus op meerdere- punten om lokale oververhitting van bronmaterialen te voorkomen en spugen tijdens reactieve verdamping te voorkomen.
Modulair smeltkroesontwerp:
Uitgerust met indexeerbare haarden met 4 tot 6- zakken, waardoor afzettingen in meerdere lagen mogelijk zijn zonder het vacuüm te onderbreken.
Geavanceerde vacuümvergrendeling:
PLC-gestuurde pneumatische kleppen, geautomatiseerde voorbewerking/hoog-vacuümsequenties en vergrendelingen beschermen tegen koelwaterstoringen en stroomstoringen.
Lage-verontreinigingskamer:
De interne afscherming maakt gebruik van elektro-gepolijst roestvrij staal met verwijderbare voeringen voor een snelle vermindering van deeltjes en een snelle onderhoudsbeurt.
Filmmaterialen en substraten
Compatibele verdampingsmaterialen
Metalen: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Diëlektrica en oxiden: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Substraattypen
Siliciumwafels (2 inch tot 12 inch)
Optisch glas, gesmolten silica en kwartssubstraten
Flexibele polymeerfilms (polyimide, PET via rol-naar-rolmodules)
Keramische substraten (Al2O3, AlN)
Toepassingen
Optische coatings:
Anti-reflecterende (AR) coatings, smal-bandfilters en hoog-spiegels voor laser- en fotonicasystemen.
Halfgeleiderapparaten:
Ohmse contactvorming, poortmetallisatie en lift{0}}-verwerking voor micro-elektronica.
Opto-elektronica:
Transparante geleidende oxidelagen (TCO) en dunne films voor OLED-schermen en fotovoltaïsche cellen.
Geavanceerde R&D:
Verkennende dunne- magnetische filmlagen, supergeleidende films en meer- heterostructuren.
Maatwerk en systeemconfiguratie
Elk dunnefilmsysteem- is geconfigureerd om te voldoen aan specifieke procesrecepten en faciliteitenindelingen. Beschikbare technische aanpassingen zijn onder meer:
Selectie pompstapel:
Turbo-moleculaire pompen (TMP), cryopompen of olie-diffusieconfiguraties die zijn afgestemd op basisvacuüm- en doorvoervereisten.
Laad-Slotintegratie:
Handmatige laad-lock- of geautomatiseerde clustersystemen met meerdere- kamers om de ultra-hoge vacuümintegriteit te behouden en de waferdoorvoer te vergroten.
In-In{0}}Insitu-metrologie:
Integratiepoorten voor spectroscopische ellipsometers, optische monitoren of restgasanalysatoren (RGA).
Besturingssoftware:
Eigen PLC/HMI-interface met receptopslag, datalogging en SECS/GEM-communicatieprotocollen voor slimme fabrieksintegratie.
Productie en kwaliteitscontrole
Vaartuigfabricage:
Alle vacuümkamers ondergaan een lektest met een heliummassaspectrometer met een afkeurdrempel van < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Lasintegriteit:
TIG-lassen uitgevoerd onder bescherming met inert gas, gevolgd door passivering van het interne oppervlak en mechanisch polijsten om ontgassing te verminderen.
Fabrieksacceptatietesten (FAT):
72-uur continue droge-runtest waarbij de pompcurves, e-gun sweep-precisie, vergrendelingsreactietijden en thermische stabiliteit worden gemeten voordat het in kratten wordt verpakt.
Naleving en normen:
Gefabriceerd onder een ISO 9001-gecertificeerd kwaliteitsmanagementsysteem, met systemen die zijn ontworpen om te voldoen aan de CE-richtlijnen en relevante SEMI (S2/S8) veiligheids- en ergonomische richtlijnen.
Veelgestelde vragen
We staan bekend als een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van dunnefilmapparatuur voor elektronenbundelverdamping in China. Als u op maat gemaakte dunne-filmapparatuur voor elektronenbundelverdamping gaat kopen, gemaakt in China, welkom om een prijslijst van onze fabriek te ontvangen. Voor prijsadvies kunt u contact met ons opnemen.
