Productoverzicht
De PVD Composite Thin Film Equipment is een industrieel vacuümdepositieplatform dat is ontworpen voor het neerslaan van meer- lagen, gelegeerde en nanocomposiet dunne films. Door magnetronsputter- en kathodische boogbronnen in één enkele vacuümkamer te integreren, maakt het systeem nauwkeurige controle mogelijk over de microstructuur van de film, restspanning en grensvlakadhesie. Het platform is gebouwd voor continue productie en geavanceerde R&D en biedt plaats aan metalen, keramische en polymeersubstraten met schaalbare kamergeometrieën.
-
![PVD-composiet vacuümdepositieapparatuur]()
PVD-composiet vacuümdepositieapparatuurDit industriële vacuümdepositieplatform van PVD-composiet integreert meerdere depositietechnieken in een omgeving met één kamer om uniforme, meer-laags metalen, gelegeerde of diëlektrische dunne...Bekijk meer -
![PVD hybride dunne-filmdepositiesysteem]()
PVD hybride dunne-filmdepositiesysteemHet PVD Hybrid Thin Film Deposition System integreert thermische verdamping, verdamping met elektronenbundels (e-beam) en RF/DC-magnetronsputteren binnen één enkele vacuümarchitectuur. Dit...Bekijk meer -
![PVD Multi-Procesapparatuur voor dunne film]()
PVD Multi-Procesapparatuur voor dunne filmDe PVD Multi-Process Thin Film Equipment is een geïntegreerd vacuümdepositieplatform dat is ontworpen om meerdere dunne- filmfabricagetechnieken te combineren, waaronder RF/DC-magnetronsputteren,...Bekijk meer -
![PVD-apparatuur voor composietafzetting]()
PVD-apparatuur voor composietafzettingIndustriële PVD-composietdepositieapparatuur is ontworpen voor de productie van meerdere-componenten, meerdere-lagen en nano-composiet dunne-films. Het systeem integreert thermische verdamping,...Bekijk meer -
![PVD composiet dunnefilmsysteem]()
PVD composiet dunnefilmsysteemIndustrieel-vacuümcoatingsysteem dat magnetronsputteren (RF/DC/HiPIMS) en kathodische boogverdamping integreert. Ontworpen voor continue, meer-laagse, gelegeerde en nano-composiet...Bekijk meer -
![PVD-composiet dunnefilmapparatuur]()
PVD-composiet dunnefilmapparatuurDe PVD Composite Thin Film Equipment is een industrieel vacuümplatform dat is ontworpen voor het synthetiseren van meer- lagen, gelegeerd en gegradeerde dunne films. Het is gebouwd op een...Bekijk meer
Technische specificaties
|
Parameter |
Specificatiebereik |
|
Ultieme vacuümdruk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Werkdruk |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Substraattemperatuur |
Omgevingstemperatuur tot 800 graden (PID-gestuurd met gesloten-lus) |
|
Afzettingsbronnen |
Configureerbaar: DC/RF-magnetronsputteren, gepulseerde DC, gefilterde kathodische boog |
|
Dikte-uniformiteit |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Kamermateriaal |
304L/316L roestvrij staal, mechanisch geslepen en elektrisch-gepolijst (Ra<= 0.4 um) |
|
Integratie van voeding |
MF-generatoren (10-100 kHz), RF-generatoren (13,56 MHz), gepulseerde DC-bias |
|
Controlesysteem |
Industriële PLC + IPC met geautomatiseerde receptuitvoering, vergrendelingsbewaking en batchgegevensregistratie |
Samengesteld depositieproces
Het systeem maakt gebruik van een hybride fysieke dampafzettingsarchitectuur die magnetronsputtering en kathodische boogtechnologieën combineert.
Synergie uit meerdere- bronnen:
Gelijktijdige of opeenvolgende werking van meerdere kathodes maakt abrupte of geleidelijke compositieovergangen over de filmstapel mogelijk.
Ionenetsing vóór-Reiniging:
RF- of DC-plasmareinigingsfasen verwijderen inheemse oxiden en oppervlakteverontreinigingen voorafgaand aan de afzetting om de hechting van de coating-aan- het substraat te maximaliseren.
Controle van reactieve afzetting:
Gesloten-optische emissiespectroscopie (OES) reguleert reactieve gasinjectie (O2, N2, C2H2) om stabiele samengestelde stoichiometrie te behouden en doelvergiftiging te voorkomen.
Substraat bias:
Gesynchroniseerde gepulseerde bias-voedingen bombarderen de groeiende film met hoogenergetische ionen, waardoor de microstructuur wordt verdicht en de resterende drukspanning wordt aangepast.
Filmmaterialen
De apparatuur ondersteunt een breed spectrum aan doelmaterialen voor op maat gemaakte functionele vereisten:
Overgangsmetaalnitriden en carbiden:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN voor slijtvastheid en corrosiebestendigheid.
Nanocomposiet en meerlaagse systemen:
TiSiN, AlTiSiN, metaal/keramische nanolagen voor extreme hardheid en thermische stabiliteit bij hoge- temperaturen.
Transparante geleidende oxiden (TCO):
ITO, AZO, IGZO voor opto-elektronische en fotovoltaïsche toepassingen.
Zuivere metalen en legeringen:
Ti, Cr, Al, Cu, roestvrij staal, NiCr voor elektrische contact- en diffusiebarrièrelagen.
Toepassingen
Precisie snijgereedschappen:
Afzetting van super-harde coatings met lage- wrijving (bijv. TiAlN) op hardmetalen wisselplaten, boren en eindfrezen- om de operationele levensduur onder hoge thermische belastingen te verlengen.
Auto-onderdelen:
Wrijving-reductie- en slijtvast-films op zuigerveren, brandstofinjectieonderdelen en tandwielconstructies.
Opto-elektronica en displays:
Geleidende oxidelagen met lage- weerstand en hoge- transmissie voor aanraakpanelen en zonnecelsubstraten.
Medische apparaten:
Biocompatibele en slijtvaste-coatings op chirurgische instrumenten en orthopedische implantaten.
Maatwerk en systeemconfiguratie
Technische configuraties worden aangepast aan specifieke beperkingen van de productiefaciliteit en procesrecepten:
Kamergrootte:
Cilindrische of rechthoekige kameropties, variërend van R&D-batchsystemen (500 mm diameter) tot grootschalige productiebelasting-slotsystemen (1000 mm+).
01
Selectie pompsuite:
Bijpassende rootsblowers, turbomoleculaire pompen en cryogene pompen op basis van de vereiste pomp-uitvaltijden en gasbelastingsprofielen.
02
Substraatbevestiging:
Aangepaste planetaire rotatiefasen, satellietrotatie met 3- assen of roll--to-roll-modules ontworpen voor complexe 3D-geometrieën of doorlopende banen.
03
Automatiseringsniveau:
Semi-geautomatiseerde handmatige laadconfiguraties of volledig geautomatiseerde vacuümoverdrachtsystemen met robotachtige substraatbehandeling.
04
Productie en kwaliteitscontrole
Lekdetectie:
Elke vacuümkamer ondergaat een heliummassaspectrometer-lektest tot een drempelwaarde van < 1 x 10^-10 Pa * m^3/s.
Lasinspectie:
Vacuüm-zijlassen worden TIG-gelast, geslepen en gepolijst, gevolgd door röntgen- of kleurpenetratie-inspectie op verzoek.
Naleving van elektrische en veiligheidsvoorschriften:
Bedieningspanelen gebouwd in overeenstemming met de NFPA 79- of CE/IEC-normen, met hardwarevergrendelingen voor waterstroom, gasdruk en elektrische veiligheid.
Fabrieksacceptatietesten (FAT):
Tests vóór verzending omvatten 72-uur continue droogcycli-, verificatie van vacuümprestaties en testcoatingafzetting met behulp van door de klant gespecificeerde recepten.
Richtlijnen voor locatievoorbereiding:Er wordt een uitgebreid document met faciliteitsvereisten verstrekt met details over de nutsinterfaces (stroom/druk koelwater, elektrische belasting, perslucht, uitlaat).
Inbedrijfstelling op-site:Buitendienstmonteurs voeren de mechanische uitlijning, controles op vacuümlekken, elektrische aansluitingen-en de initiële kalibratie uit.
Procesrecept afstemmen:Samenwerking op locatie met metallurgen en procesingenieurs van klanten om de doelfilmdikte, spanning en hardheidsparameters vast te leggen.
Levenscyclusondersteuning:Interface voor diagnose op afstand, gelokaliseerde inventaris van reserveonderdelen en geplande preventieve onderhoudsprogramma's.
Veelgestelde vragen
We staan bekend als een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van dunne-filmapparatuur voor pvd-composiet in China. Als u op maat gemaakte pvd-composiet dunne-filmapparatuur gaat kopen, gemaakt in China, welkom om de prijslijst van onze fabriek te ontvangen. Voor prijsadvies kunt u contact met ons opnemen.
