Ion-Ondersteunde vacuümverdampingsapparatuur

Ion-Ondersteunde vacuümverdampingsapparatuur

Details
Het Ion-ondersteunde vacuümverdampingssysteem integreert hoog-vacuüm thermische of elektronen-verdampingsbronnen met een Kaufman-type of End-Hall-ionenbron. Door de groeiende film te bombarderen met geïoniseerd gas (Ar of O2) tijdens fysische dampafzetting (PVD), draagt ​​het systeem kinetische energie over aan adatomen, waardoor de kolomvormige microstructuur wordt onderdrukt en vochtabsorptie in optische en diëlektrische dunne films wordt voorkomen.
Productclassificatie
Ion-apparatuur voor geassisteerde verdamping van dunne films
 
Aanvraag sturen
Beschrijving
Technische Parameters

Het Ion-ondersteunde vacuümverdampingssysteem integreert hoog-vacuüm thermische of elektronen-verdampingsbronnen met een Kaufman-type of End-Hall-ionenbron. Door de groeiende film te bombarderen met geïoniseerd gas (Ar of O2) tijdens fysische dampafzetting (PVD), draagt ​​het systeem kinetische energie over aan adatomen, waardoor de kolomvormige microstructuur wordt onderdrukt en vochtabsorptie in optische en diëlektrische dunne films wordt voorkomen.


Het systeem is gebouwd voor cleanroom-integratie en continue productie in meerdere-ploegendiensten en schaalt van R&D-oppervlakken (kamers van 300 mm) tot industriële lijnen met hoge- doorvoer (configuraties met dubbele- 900 mm dubbele deuren en planetaire rotatie).

 

Technische specificaties

 

Parametercategorie

Technische specificatie

Kamerafmetingen

600 mm x 600 mm x 600 mm (aanpasbaar tot 1200 mm)

Kamermateriaal

304L roestvrij staal, interne oppervlakken elektrolytisch gepolijst tot Ra <0,2 um

Basisdruk

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere)

Ultieme druk

<= 8.0 x 10^-6 Pa

Verdampingsbronnen

E-kanon met meerdere -pockets (6 x 15 cc / 4 x 40 cc) en resistieve thermische bronnen

Ionenbron

Einde-Hal/rasterloze ionenbron (bundelspanning: 50-300 V, ionenstroom: 0-500 mA)

Substraat armatuur

Planetair rotatiemechanisme (0-20 RPM) met optionele verwarming (RT tot 350 graden C)

Filmdiktecontrole

Kwartskristalmicrobalans (QCM) met dubbele sensorkop en PID-controller met gesloten-lus

 

Belangrijkste kenmerken


Bijna-bulkdichtheid:Verhoogde adatom-oppervlaktemobiliteit elimineert zichtbare filmporositeit en maximaliseert de mechanische hardheid.


Intrinsieke stressafstemming:Instelbare ionenbundelenergie neutraliseert mechanische spanning en voorkomt delaminatie op dikke diëlektrische stapels.


Lage-thermische-budgetverwerking:Door de impuls-gedreven verdichting is hoogwaardige coating- mogelijk op temperatuur-gevoelige polymeersubstraten zonder thermische vervorming.


Receptautomatisering:PLC-gestuurde vacuümvergrendelingen en pomp-down-sequencing beheerd via een industrieel touch-paneel HMI met datalogging.

 

Configuratie van het vacuümsysteem


Voorbewerken fase:Mechanische twee-traps roterende schoepenpomp gekoppeld aan een wortelsblower (snelheid van 150 l/s) voor snelle overschakeling.


Hoog vacuümstadium:Magnetisch zwevende turbomoleculaire pomp (1600 l/s), ondersteund door een olie-vrije droge scrollpomp om het terugstromen van koolwaterstoffen te elimineren.


Cryogene optie:Vloeibare stikstof-koelval en cryopomp-integratie voor lage partiële waterdampdrukken-.


Vacuümmeting:Cross-gekalibreerde Pirani- en koude-kathodemeters voor realtime-feedback van de atmosfeer tot 10^-7 Pa.

 

Verdampingsmaterialen en substraatcompatibiliteit


Verdampingsmaterialen
Oxiden:
SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3


Fluoriden:MgF2, LaF3


Metalen:Al, Ag, Au, Ti, Cr


Substraatcompatibiliteit
Optische substraten:
Ramen van gesmolten silica, N-BK7, silicium, germanium en zinkselenide.


Halfgeleiderwafeltjes:100 mm tot 300 mm silicium- en samengestelde halfgeleiderwafels.


Polymeren:PET-, PI- (polyimide) en PMMA-films die gebruikmaken van IAD-parameters bij lage- temperaturen.

 

Toepassingen


Precisie-optiek:Anti{0}}reflecterende (AR) coatings, laserspiegels en smalle banddoorlaatfilters die vochtbestendigheid vereisen.


Micro-elektronica:Metalen poortelektroden, adhesielagen en passivatiebarrières in halfgeleiderverpakkingen.


Opto-elektronica:Transparante geleidende oxide (TCO) contacten en OLED-vocht-inkapselingslagen.

 

Aanpassingsopties


Kamergeometrie:Rechthoekige of cilindrische constructies afgestemd op de beperkingen van cleanroomwanden.


Integratie van meerdere- bronnen:Co-verdampingsopstellingen met plaats voor maximaal drie E-beam-kanonnen en vier thermische boten.


Metrologiepoorten in- in situ:Flensintegratiepoorten voor spectroscopische ellipsometers of optische monitoringsystemen.


Automatiseringsniveau:Semi-automatische onderzoeksconstructies of volledig geautomatiseerde verwerking van cassette-tot-cassettewafels.

 

Kwaliteitscontrole- en testprotocollen


Lekdetectie:Heliummassaspectrometertests in elke kamer met een strikte afkeurdrempel van < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.


Reinheidscontrole:Scan van restgasanalysator (RGA) uitgevoerd vóór- verzending om te verifiëren dat er geen organische koolwaterstoffen aanwezig zijn.


Systeembranden-In:72-uur durende continue droogtest van mechanische aandrijvingen, koelspruitstukken en elektrische vergrendelingen.


Documentatie:Materiaalmolentestcertificaten (MTR's), elektrische schema's en Factory Acceptance Test (FAT)-rapporten.

 

Installatie en technische ondersteuning


Voorbereiding van de locatie:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 m^3/u), schone, droge lucht (CDA) en uitlaat.


Inbedrijfstelling:Implementatie van buitendienst voor mechanische waterpasstelling, aansluiting van nutsvoorzieningen, vacuümkalibratie en aftekenen van recepten-.


Operatortraining:Programma van vijf- dagen op locatie, inclusief bediening, preventief onderhoud, probleemoplossing en veiligheidsvergrendelingen.


Reserveonderdelen:Kritieke slijtageartikelen (filamenten, QCM-kristallen, afdichtingen, turbomoleculaire lagers) zijn regionaal op voorraad.

 

Veelgestelde vragen

 

Vraag: Hoe voorkomt IAD brekingsindexafwijking?

A: Ionenbombardement verdrijft opgesloten restgassen en comprimeert de filmgroei tot bijna-bulkdichtheid. Dit stopt de condensatie van omgevingsvocht bij atmosferische ventilatie, waardoor een middengolflengteverschuiving van nul in de loop van de tijd wordt gegarandeerd.

Vraag: Wat is het onderhoudsinterval voor ionenbronroosters en filamenten?

A: Einde-Hallionenbronnen werken 150-200 procesuren, afhankelijk van reactieve gassen. Snelspanklemmen maken het vervangen van componenten in minder dan 30 minuten mogelijk.

Vraag: Kan het systeem reactieve processen zoals TiO2 aan?

EEN: Ja. Speciale massflowregelaars (MFC's) met hoge- precisie injecteren zuurstof of stikstof rechtstreeks in de kamer en de ionenbron, waardoor volledige stoichiometrie wordt gegarandeerd en sub-oxide-absorptie wordt geëlimineerd.

 

Populaire tags: ion-ondersteunde vacuümverdampingsapparatuur, China ion-ondersteunde fabrikanten van vacuümverdampingsapparatuur, leveranciers, fabriek

Aanvraag sturen
Neem contact met ons opals u vragen heeft

U kunt contact met ons opnemen via telefoon, e-mail of het onderstaande online formulier. Onze specialist neemt spoedig contact met u op.

Neem nu contact op!