Het Ion-ondersteunde vacuümverdampingssysteem integreert hoog-vacuüm thermische of elektronen-verdampingsbronnen met een Kaufman-type of End-Hall-ionenbron. Door de groeiende film te bombarderen met geïoniseerd gas (Ar of O2) tijdens fysische dampafzetting (PVD), draagt het systeem kinetische energie over aan adatomen, waardoor de kolomvormige microstructuur wordt onderdrukt en vochtabsorptie in optische en diëlektrische dunne films wordt voorkomen.
Het systeem is gebouwd voor cleanroom-integratie en continue productie in meerdere-ploegendiensten en schaalt van R&D-oppervlakken (kamers van 300 mm) tot industriële lijnen met hoge- doorvoer (configuraties met dubbele- 900 mm dubbele deuren en planetaire rotatie).
Technische specificaties
|
Parametercategorie |
Technische specificatie |
|
Kamerafmetingen |
600 mm x 600 mm x 600 mm (aanpasbaar tot 1200 mm) |
|
Kamermateriaal |
304L roestvrij staal, interne oppervlakken elektrolytisch gepolijst tot Ra <0,2 um |
|
Basisdruk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere) |
|
Ultieme druk |
<= 8.0 x 10^-6 Pa |
|
Verdampingsbronnen |
E-kanon met meerdere -pockets (6 x 15 cc / 4 x 40 cc) en resistieve thermische bronnen |
|
Ionenbron |
Einde-Hal/rasterloze ionenbron (bundelspanning: 50-300 V, ionenstroom: 0-500 mA) |
|
Substraat armatuur |
Planetair rotatiemechanisme (0-20 RPM) met optionele verwarming (RT tot 350 graden C) |
|
Filmdiktecontrole |
Kwartskristalmicrobalans (QCM) met dubbele sensorkop en PID-controller met gesloten-lus |
Belangrijkste kenmerken
Bijna-bulkdichtheid:Verhoogde adatom-oppervlaktemobiliteit elimineert zichtbare filmporositeit en maximaliseert de mechanische hardheid.
Intrinsieke stressafstemming:Instelbare ionenbundelenergie neutraliseert mechanische spanning en voorkomt delaminatie op dikke diëlektrische stapels.
Lage-thermische-budgetverwerking:Door de impuls-gedreven verdichting is hoogwaardige coating- mogelijk op temperatuur-gevoelige polymeersubstraten zonder thermische vervorming.
Receptautomatisering:PLC-gestuurde vacuümvergrendelingen en pomp-down-sequencing beheerd via een industrieel touch-paneel HMI met datalogging.
Configuratie van het vacuümsysteem
Voorbewerken fase:Mechanische twee-traps roterende schoepenpomp gekoppeld aan een wortelsblower (snelheid van 150 l/s) voor snelle overschakeling.
Hoog vacuümstadium:Magnetisch zwevende turbomoleculaire pomp (1600 l/s), ondersteund door een olie-vrije droge scrollpomp om het terugstromen van koolwaterstoffen te elimineren.
Cryogene optie:Vloeibare stikstof-koelval en cryopomp-integratie voor lage partiële waterdampdrukken-.
Vacuümmeting:Cross-gekalibreerde Pirani- en koude-kathodemeters voor realtime-feedback van de atmosfeer tot 10^-7 Pa.
Verdampingsmaterialen en substraatcompatibiliteit
Verdampingsmaterialen
Oxiden:SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3
Fluoriden:MgF2, LaF3
Metalen:Al, Ag, Au, Ti, Cr
Substraatcompatibiliteit
Optische substraten:Ramen van gesmolten silica, N-BK7, silicium, germanium en zinkselenide.
Halfgeleiderwafeltjes:100 mm tot 300 mm silicium- en samengestelde halfgeleiderwafels.
Polymeren:PET-, PI- (polyimide) en PMMA-films die gebruikmaken van IAD-parameters bij lage- temperaturen.
Toepassingen
Precisie-optiek:Anti{0}}reflecterende (AR) coatings, laserspiegels en smalle banddoorlaatfilters die vochtbestendigheid vereisen.
Micro-elektronica:Metalen poortelektroden, adhesielagen en passivatiebarrières in halfgeleiderverpakkingen.
Opto-elektronica:Transparante geleidende oxide (TCO) contacten en OLED-vocht-inkapselingslagen.
Aanpassingsopties
Kamergeometrie:Rechthoekige of cilindrische constructies afgestemd op de beperkingen van cleanroomwanden.
Integratie van meerdere- bronnen:Co-verdampingsopstellingen met plaats voor maximaal drie E-beam-kanonnen en vier thermische boten.
Metrologiepoorten in- in situ:Flensintegratiepoorten voor spectroscopische ellipsometers of optische monitoringsystemen.
Automatiseringsniveau:Semi-automatische onderzoeksconstructies of volledig geautomatiseerde verwerking van cassette-tot-cassettewafels.
Kwaliteitscontrole- en testprotocollen
Lekdetectie:Heliummassaspectrometertests in elke kamer met een strikte afkeurdrempel van < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Reinheidscontrole:Scan van restgasanalysator (RGA) uitgevoerd vóór- verzending om te verifiëren dat er geen organische koolwaterstoffen aanwezig zijn.
Systeembranden-In:72-uur durende continue droogtest van mechanische aandrijvingen, koelspruitstukken en elektrische vergrendelingen.
Documentatie:Materiaalmolentestcertificaten (MTR's), elektrische schema's en Factory Acceptance Test (FAT)-rapporten.
Installatie en technische ondersteuning
Voorbereiding van de locatie:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 m^3/u), schone, droge lucht (CDA) en uitlaat.
Inbedrijfstelling:Implementatie van buitendienst voor mechanische waterpasstelling, aansluiting van nutsvoorzieningen, vacuümkalibratie en aftekenen van recepten-.
Operatortraining:Programma van vijf- dagen op locatie, inclusief bediening, preventief onderhoud, probleemoplossing en veiligheidsvergrendelingen.
Reserveonderdelen:Kritieke slijtageartikelen (filamenten, QCM-kristallen, afdichtingen, turbomoleculaire lagers) zijn regionaal op voorraad.
Veelgestelde vragen
Vraag: Hoe voorkomt IAD brekingsindexafwijking?
A: Ionenbombardement verdrijft opgesloten restgassen en comprimeert de filmgroei tot bijna-bulkdichtheid. Dit stopt de condensatie van omgevingsvocht bij atmosferische ventilatie, waardoor een middengolflengteverschuiving van nul in de loop van de tijd wordt gegarandeerd.
Vraag: Wat is het onderhoudsinterval voor ionenbronroosters en filamenten?
A: Einde-Hallionenbronnen werken 150-200 procesuren, afhankelijk van reactieve gassen. Snelspanklemmen maken het vervangen van componenten in minder dan 30 minuten mogelijk.
Vraag: Kan het systeem reactieve processen zoals TiO2 aan?
EEN: Ja. Speciale massflowregelaars (MFC's) met hoge- precisie injecteren zuurstof of stikstof rechtstreeks in de kamer en de ionenbron, waardoor volledige stoichiometrie wordt gegarandeerd en sub-oxide-absorptie wordt geëlimineerd.
Populaire tags: ion-ondersteunde vacuümverdampingsapparatuur, China ion-ondersteunde fabrikanten van vacuümverdampingsapparatuur, leveranciers, fabriek

