Ion-ondersteunde apparatuur voor depositie van dunne films

De IA-Series Ion-Assisted Thin Film Deposition Equipment integreert thermische verdamping met elektronen-bundels met een Kaufman- of End-Hall-ionenbron. Energetisch ionenbombardement (argon/zuurstofmengsel) tijdens de afzetting brengt momentum over op adatomen, waardoor kolomvormige holtes worden geëlimineerd, vochtabsorptie wordt onderdrukt en de brekingsindices worden gestabiliseerd. De roestvrijstalen kamer- is ontworpen voor hoge-precieze R&D en continue productie en handhaaft een basisdruk van minder dan 5 x 10^-6 Pa om dichte, stoichiometrische dunne films te leveren voor optica, sensoren en halfgeleiders.

Verdichting van de microstructuur:Gelijktijdig ionenbombardement verhoogt de pakkingsdichtheid in de buurt van bulkwaarden door de korrelgrenzen te laten samenvallen.

Intrinsieke stressbeheersing:Instelbare aankomstverhoudingen van ionen{0}}tot- atomen voorkomen delaminatie van de film op brosse substraten (silicium, germanium, gesmolten silica).

Verbeterde hechting:Voorre-reiniging via ionenetsing verwijdert inheemse oxiden en oppervlakteverontreinigingen vóór de afzetting.

Gesloten-loopautomatisering:PLC-architectuur automatiseert vacuümsequenties, sluiterbediening, stroomtoename en gas-MFC's.

Thermische isolatie:Water-gekoelde kamerwanden en stralingsschermen beschermen substraten tegen e-straling van de haard.

Hoge-vacuümpomp:Turbomoleculaire pomp met magnetische levitatie (1600 l/s voor N2) voor olie-vrije werking.

Voorbewerken fase:Draaischuif met directe-aandrijving gecombineerd met een Roots-blower voor snelle crossover.

Afdichtingen & kleppen:Pneumatische schuifafsluiters met Viton/Metal bakeout--gecertificeerde afdichtingen.

Vergrendelingen:Pirani- en koudekathodemeters geïntegreerd met overdrukbeveiligingscircuits.

Verdampingsmaterialen:
Oxiden (SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5)
Fluoriden (MgF2, YF3)
Vuurvaste metalen (Ti, Cr, Al)

Substraatmaterialen:
Gesmolten silica, optisch glas, ZnSe, siliciumwafels, GaAs, roestvrij staal.

Precisie-optiek:Anti-reflecterende coatings, banddoorlaatfilters en hoog-spiegels voor laser- en DWDM-telecommunicatiesystemen.

IR-vensters:Beschermende, duurzame anti{0}}reflecterende films op germanium- en silicium-thermische beeldoptiek.

Halfgeleiders:Diëlektrische isolatiefilms en passivatielagen voor metaalcontact.

Opto-elektronica:Transparante geleidende oxidelagen voor sensorarrays en platte panelen.

Kamergeometrie:Op maat gemaakte envelopafmetingen voor gespecialiseerde productiemallen of groot-formaatoptiek.

Bronintegratie:Dubbele e-kanonconfiguraties, thermische weerstandsboten of bronnen van reactief thermisch kraken.

Automatisering:SECS/GEM-compatibel maakt-productiesoftwarepakketten mogelijk.

Substraatarmaturen:Aangepaste houders voor gebogen lenzen, micro-prisma's of 300 mm-wafels.

Nalevingsnormen:Gebouwd volgens CE- en SEMI S2/S8-cleanroomrichtlijnen.

Lekdetectie:Helium-massaspectrometer testen op alle lassen (leksnelheid<= 1 x 10^-10 Pa*m^3/s).

Branden-In:72 uur continu drooglopen van mechanische doorvoeren en vergrendelingen.

Uniformiteitscontrole:Spectrofotometrische analyse die de dikteverdeling binnen +/- 1% over de houder verifieert.

Leveringstijdlijn:De standaardproductie-, FAT- en kratproductietijd bedraagt ​​16 tot 20 weken vanaf technische aftekening- en storting.

Voorbereiding van de locatie:Uitgebreide gebruikershandleiding vooraf verstrekt (met specificatie van de gekoeldwaterstroom, 380V-stroom en perslucht).

Inbedrijfstelling:On-installatie, kalibratie en procesafstemming op locatie door ervaren buitendienstingenieurs.

Levenscyclusondersteuning:Lokaal opgeslagen kritische reserveonderdelen (filamenten, kwartskristallen, afdichtingssets) voor snelle verzending.