De EBE-V600-serie is een platform voor fysieke dampdepositie (PVD) op industriële-schaal, ontworpen voor nauwkeurige dunne-filmcoating van optische componenten, halfgeleiderapparaten en geavanceerde materialen. Door een hoogenergetische, magnetisch gefocusseerde elektronenbundel op bronmaterialen in watergekoelde smeltkroezen te richten, bereikt het systeem snelle verdampingssnelheden terwijl de thermische belasting geïsoleerd blijft van de kamerwanden.
De architectuur omvat multi{0}}pocket-elektronenbronnen en dubbele kwartskristalmicrobalanssensoren (QCM), waardoor stoichiometrische filmgetrouwheid en consistente diktecontrole over meer-laagse diëlektrische of metalen stapels worden gegarandeerd.
Technische specificaties
|
Technische parameter |
Specificatie Waarde |
|
Kamergeometrie en materiaal |
Φ600 mm x 600 mm cilindrisch vat; SS304 elektrolytisch gepolijst interieur met externe koelwatermantels |
|
Ultieme basisdruk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping) |
|
Afpomp-cyclustijd |
<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa) |
|
Elektronenkanonkracht |
Multipocketconfiguratie van 6 kW tot 12 kW met een straalafbuiging van 270 graden |
|
Capaciteit van de smeltkroes |
4 tot 6 zakken (verwisselbare koperen/grafietkroezen, 15cc tot 40cc volume per zak) |
|
Substraatfaserotatie |
0 tot 30 RPM planetaire of directe aandrijving met variabele snelheid |
|
Substraatverwarmingsbereik |
Omgevingstemperatuur tot 600 graden via PID-halogeenlamparray met gesloten-lus |
|
Diktebewaking |
Dubbele QCM-sensoren met automatische sluiterfeedbackregeling |
Belangrijkste kenmerken
E-pistool met magnetische afbuiging van 270 graden:Isoleert de wolfraamgloeidraad van directe damppaden, waardoor kortsluiting- wordt voorkomen en de levensduur tussen onderhoudsintervallen wordt verlengd.
Digitale sweepcontrole:Programmeerbare rasterpatronen verdelen de elektronenenergie gelijkmatig over het verdampingsoppervlak, waardoor de vorming van gaatjes en preferentiële verdamping tijdens de afzetting van legeringen worden verminderd.
Ontkoppelde vacuümarchitectuur:Voorbewerkings- en hoogvacuümpompleidingen zijn structureel geïsoleerd van het frame van de hoofdkamer om mechanische trillingsoverdracht tijdens filmgroei te onderdrukken.
Veiligheidsmatrix voor hardwarevergrendeling:Real- PLC-bewaking van de koelwaterstroom, hoge- spanningsfeedback, pneumatische druk en integriteit van de deurafdichting.
Configuratie van het vacuümsysteem
Het vacuüm-sub-circuit is ontworpen voor snelle cycli en lage basisdruk om de opname van restgas (H2O, O2, N2) in groeifilms te minimaliseren:
Hoge-vacuümpomp:Turbo-moleculaire pomp van 1200 l/s, ondersteund door een twee-traps roterende schoepenpomp (of droge scroll-pompconfiguratie voor naleving van cleanroomvereisten).
Afsluitklep:Pneumatisch bediende schuifafsluiter met hoge- geleiding die de kamer isoleert tijdens belastingsoperaties.
Vacuümmeting:Gecombineerde Pirani- en koude-kathode-ionisatiemeters die een continu bereik bestrijken van atmosfeer tot 10^-6 Pa.
Filmmaterialen en substraten
Compatibele verdampingsbronnen
Oxiden en diëlektrica:SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, HfO2
Zuivere metalen:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Ni
Halfgeleiders en geleiders:Si, Ge, ITO (Indiumtinoxide)
Toepassingen
Optische interferentiefilters:Hoge-index en lage-index meer-laagse stapelafzetting voor smalle-banddoorlaatfilters en laserspiegels.
Fabricage van halfgeleiderapparaten:Ohmse contactvorming, afzetting van poortoxide en metaalzaadlagen.
OLED- en beeldschermonderzoek:Dunne metaalkathode-afzetting en meer-laagse organische/anorganische passivatietests.
Harde vuurvaste coatings:Beschermende, slijtvaste-lagen voor mechanische en ruimtevaartcomponenten.
Maatwerk
Kameruitbreiding:Uitgebreide vathoogten of rechthoekige geometrieën op maat gemaakt voor integratie van clustergereedschappen.
Bronintegratie:Gelijktijdige thermische verdampingsbronnen (weerstandsboten) gecombineerd met elektronenbundelkanonnen.
Ion-ondersteunde afzetting (IAD):Integratie van een eind-Hall- of Kaufman-ionenbron voor filmverdichting en spanningsafstemming.
Software-architectuur:PLC/HMI-receptprogrammering conform Siemens S7- of Beckhoff-automatiseringsframeworks.
Kwaliteitscontrole
Massaspectrometer heliumlektesten:Elke kamerlasverbinding wordt voorafgaand aan de integratie getest tot een afkeurdrempel van < 1 x 10^-9 Pa·m3/s.
Elektrische conformiteit:Hoge- diëlektrische weerstandstests en verificatie van de aardingscontinuïteit volgens de CE/UL-richtlijnen.
Fabrieksacceptatietesten (FAT):72-uur continue droge-run testregistratie van basisdrukcurven, herhaalbaarheid van e-beam sweep en responstijden van vergrendelingen. Testdocumentatie meegeleverd met het apparaat.
Installatie en technische ondersteuning
Inbedrijfstelling van de site:In de fabriek-gecertificeerde technici zorgen voor de mechanische uitlijning, de verificatie van vacuümlekken, toezicht op de aansluitingen op nutsvoorzieningen en de eerste kalibratieruns.
Technische training:Drie-daagse operationele en onderhoudsprotocoltraining op locatie over het vervangen van filamenten, het opnieuw opbouwen van vacuümkleppen en het bewerken van recepten.
Documentatieresultaten:Volledige technische mappen inclusief P&ID-schema's, elektrische bedradingsschema's, PLC-back-upbestanden en specificatie van reserveonderdelen.
Veelgestelde vragen
Vraag: Wat is de operationele levensduur van het e-wolfraamgloeidraad van het pistool, en hoe wordt het onderhouden?
A: Onder standaard werkdruk (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.
Vraag: Hoe voorkomt het systeem spugen tijdens oxideafzetting?
A: De digitale sweepgenerator verdeelt elektronenenergie over een berekende rastermatrix op de oxidepellet. Dit elimineert plaatselijke oververhitting, voorkomt explosief koken en onderdrukt de uitstoot van micro-druppeltjes.
Vraag: Welke nutsinfrastructuur is verplicht op de installatielocatie?
A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 L/min, temperatuur 18 graden tot 25 graden.
Elektriciteitsnet: 3-fasen, 380 V ± 10%, 50/60 Hz (of in de fabriek geconfigureerd volgens regionale normen).
Perslucht: 0,5 MPa tot 0,7 MPa droge lucht voor pneumatische klepactuators.
Vraag: Is diagnosetoegang op afstand geïntegreerd in het besturingssysteem?
EEN: Ja. Een geïsoleerde Ethernet-poort ondersteunt een veilige VPN-verbinding voor het op afstand ophalen van PLC-logboeken en het oplossen van softwareproblemen door ons technische team.
Populaire tags: elektronenbundel verdamping dunne film apparatuur, China elektronenbundel verdamping dunne film apparatuur fabrikanten, leveranciers, fabriek
