Magnetron-sputtercoatingapparatuur

Magnetron sputtercoatingmachine is een fysieke dampdepositietechnologie die gebruik maakt van magnetische veld- en ioninteractie om dunne films te bereiden. De Magnetron Sputtering-coatingmachine maakt gebruik van de bewezen kerntechnologie van het bedrijf: Ionbeam Cleaning + Magnetron-sputterbron. In de vacuümkamer bereikt de omgeving door stofzuigen een hoge vacuümtoestand. Vervolgens wordt door middel van glimontlading of radiofrequentiestraling het doeloppervlak geactiveerd om de werkende gasatomen of moleculen te ioniseren en een plasma te vormen. Vervolgens worden de ionen, door het aanleggen van een magnetisch veld, gecontroleerd door het magnetische veld, waardoor de kans groter wordt dat ze het oppervlak van het doel raken. De ionenbundel botst met het oppervlak van het doel, waardoor de atomen of moleculen op het doel met een hogere snelheid sputteren en zich op het substraatoppervlak afzetten om een ​​film te vormen. De energie van de ionenbundel kan worden aangepast en de structuur en eigenschappen van de film kunnen worden gewijzigd door de energie en dichtheid van de ionenbundel te regelen. De magnetronsputtercoatingmachine maakt gebruik van volledig automatische besturing, modulaire integratie-optimalisatie, hoog vermogen, goede stabiliteit, eenvoudige bediening en eenvoudig onderhoud. De magnetronsputtermachine is geschikt voor coatingontwikkeling en batchcoatingdiensten.

express Snelle afzettingssnelheid;

express Lage temperatuurstijging van het substraat;

express De schade aan de membraanlaag is klein;

express Goede membraanbinding;

express Hoge filmzuiverheid, goede dichtheid, goede filmuniformiteit;

express Goede herhaalbaarheid;

express Geschikt voor diverse materialen;

express Gemakkelijk te realiseren industrialisatie;

express De samenstelling van de filmlaag ligt dicht bij die van het doelmateriaal.

express De filmcoating is goed;

express Negatieve bias wordt toegepast op het werkstuk;

express samengestelde doeltechniek.